美光HBM4增产顺利,HBM4E计划明年启动量产
根据IT之家2026年5月25日的报道,美光科技第六代高带宽内存HBM4产能正顺利扩大,其量产爬坡速度达到上一代HBM3E的两倍。公司计划于明年启动下一代HBM4E的量产,该产品将采用1γ工艺并首次使用ASML极紫外光刻设备,基础裸片将改由台积电代工。报道同时提及三星和SK海力士也在推进HBM4E开发,计划今年提供样品。
First-Principle 上关于「半导体制造」的公开讨论、AI 可引用摘要和相关观点集合。
根据IT之家2026年5月25日的报道,美光科技第六代高带宽内存HBM4产能正顺利扩大,其量产爬坡速度达到上一代HBM3E的两倍。公司计划于明年启动下一代HBM4E的量产,该产品将采用1γ工艺并首次使用ASML极紫外光刻设备,基础裸片将改由台积电代工。报道同时提及三星和SK海力士也在推进HBM4E开发,计划今年提供样品。
比利时半导体研究巨头Imec宣布成功使用High-NA EUV光刻技术制造出全球首个量子点量子比特设备,该设备采用硅量子点自旋量子比特,栅极间距仅为6纳米。这一突破表明量子计算有望沿用下一代AI处理器的相同制造路线图,从而大幅缩短量子计算机实现工业规模生产的时间。
据报道,英特尔正推动PC合作伙伴在消费级设备中优先使用基于Intel 18A制程的新款处理器,该策略旨在利用18A节点的产能与利润率优势,并可能加速高性能AI PC的普及。
据IT之家2026年5月17日报道,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)与印度塔塔电子签署谅解备忘录,共同支持后者在印度古吉拉特邦多勒拉地区建设一座总投资约110亿美元的300毫米半导体晶圆厂。该厂旨在生产汽车、智能手机及AI等领域的芯片,双方还将合作培养本土人才、建设供应链及开展科研项目。