**上海微电子新一代前道光刻机模型亮相进博会，实现全链条自主可控**

_我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相_

> 在进博会上，上海微电子（SMEE）展示了自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。该平台采用透明剖视设计，适配I-line与KrF技术路线，核心部件如高精度物镜、双工件台等均已实现全链条自主可控。目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际领先水平相当，套刻精度与生产效率紧密追赶国际标杆，有效运行率超92%，为半导体产业链安全提供了核心支撑。

**来源信息**
- **来源**：IT之家（RSS）
- **分类**：行业
- **发布时间**：2026-11-08 16:36（北京时间）
- **原文**：[打开原文](https://www.ithome.com/1/023/924.htm)