**AI芯片初创Etched完成流片:低电压设计提升算力,SRAM+HBM兼顾性能** _AI 芯片新创 Etched 完成流片:低电压提升实际算力表现,SR
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**AI芯片初创Etched完成流片:低电压设计提升算力,SRAM+HBM兼顾性能**
_AI 芯片新创 Etched 完成流片:低电压提升实际算力表现,SRAM + HBM 缓存_
> AI芯片初创企业Etched宣布其推理加速器芯片完成A0步进流片,获超10亿美元订单及8亿美元B轮融资。该芯片采用台积电N4P工艺,通过多层次优化使数学模块电压降低50%以上,有效解决高负载发热导致的算力衰减问题。同时,芯片采用片上SRAM与片外HBM组合设计,兼顾低延迟与大容量,首批机架产品预计于2026年夏季出货。
**来源信息**
- **来源**:IT之家(RSS)
- **分类**:ai-models
- **发布时间**:2026-07-01 09:21(北京时间)
- **原文**:[打开原文](https://www.ithome.com/0/970/858.htm)