**英特尔 CTO：制程差距已缩至 10% 以内，但产能追赶仍需时日**

_英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%，但产能追赶仍需时间_

> 英特尔 CTO 普什卡尔·拉纳德表示，与台积电的制程技术差距已缩小至 10% 以内，但受限于全球半导体设备供应瓶颈，产能追赶仍需时间。他强调，相比单纯追求性能指标，按时推进工艺、提高良率及扩大产能更为关键。此外，英特尔副总裁透露，其 14A 制程将 High-NA EUV 作为可选方案，并计划通过背面供电架构优化技术路径。

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- **来源**：IT之家（RSS）
- **分类**：行业
- **发布时间**：2026-10-24 15:56（北京时间）
- **原文**：[打开原文](https://www.ithome.com/1/017/411.htm)