**三星 8 纳米工艺“再活一届”：无 EUV 路线实现性能功耗双优**

_三星 8 纳米工艺“再活一届”：性能提升 12%、功耗降低 15%、芯片面积缩小 8%_

> 三星计划于 2026 年 12 月在 IEDM 活动中发布第二代 8LPU+ 平台，该工艺采用无 EUV 路线，相比上一代性能提升 12%、功耗降低 15% 且芯片面积缩小 8%。凭借 3.3V 平面 I/O 器件及优化的 eMRAM，该平台主要面向边缘 AI、机器人和汽车芯片，旨在以成熟制程的成本优势抢占市场。

**来源信息**
- **来源**：IT之家（RSS）
- **分类**：行业
- **发布时间**：2026-10-21 08:00（北京时间）
- **原文**：[打开原文](https://www.ithome.com/1/015/638.htm)